北科纳米合作生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造,可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形,适用于所有TEM样品杆,为适用于多种实验条件,北科纳米为科研人员提供了单窗格,多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用低应力技术(<250MPa),氮化硅膜薄透且不易破损,非常适合于前沿的生物、材料、物理、化学等方面的研究。
产品特点
超洁净
100级洁净环境
严格选用硅衬底材料
先进的工艺水平
高强度
薄膜应力<250Mpa
薄膜最薄可至10nm
窗口大小可至2cm
理化稳定性优良
耐酸(氢氟酸除外),耐碱,耐有机溶剂
易使用等离子体清洗
强流电子束耐受
技术参数
外框项目
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参数
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外框项目
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参数
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材料
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N型硅
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电阻率
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1~10Ω-cm
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氮化硅膜参数
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参数
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氮化硅膜参数
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参数
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材料
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LPCVD 氮化硅薄膜
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应力
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<250MPa
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介电常数
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6-7
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介电强度
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10(106 V/cm )
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电阻率
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1016Ω-cm
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粗糙度(Ra)
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0.28±5%nm
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杨氏模量
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270GPa
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粗糙度(Rms)
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0.40±5%nm
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应用范围
纳米材料,半导体材料,光学晶体材料,功能薄膜材料
胶体,气凝胶,有机材料和纳米颗粒的表征实验
含碳样品分析(光阻剂,聚合物,食品,油品,燃料等)
作为生物、细胞载体
产品规格
—— TEM单窗格氮化硅膜 ——
衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗
产品编号
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膜厚
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窗口尺寸
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立即购买
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SG010Z
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10nm
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0.10×0.10mm
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SG015Z
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10nm
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0.15×0.15mm
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SG025Z
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10nm
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0.25×0.25mm
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SG050Z
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10nm
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0.50×0.50mm
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SG025A
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15nm
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0.25x0.25mm
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SG050A
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15nm
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0.5x0.5mm
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SG100A
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15nm
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1x1mm
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SG025B
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30nm
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0.25x0.25mm
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SG050B
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30nm
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0.5x0.5mm
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SG100B
|
30nm
|
1x1mm
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SG025C
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50nm
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0.25x0.25mm
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SG050C
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50nm
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0.5x0.5mm
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SG100C
|
50nm
|
1x1mm
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SG050D
|
100nm
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0.5x0.5mm
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SG025E
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200nm
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0.25x0.25mm
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SG050E
|
200nm
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0.5x0.5mm
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每盒包含10枚芯片
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—— TEM多窗格氮化硅膜 ——
多窗口阵列,衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
产品编号
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膜厚
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窗口尺寸
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窗口数
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窗口间距
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AR010Z
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10nm
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0.1x0.1mm
|
9
|
0.35nm
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AR010A
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15nm
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0.1x0.1mm
|
9
|
0.35mm
|
|
AR010B
|
30nm
|
0.1x0.1mm
|
9
|
0.35mm
|
|
AR010C
|
50nm
|
0.1x0.1mm
|
9
|
0.45mm
|
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TA015A
|
15nm
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0.1x1.5mm
|
2
|
0.45mm
|
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TA015C
|
50nm
|
0.1x1.5mm
|
2
|
0.45mm
|
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每盒包含10枚芯片
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—— TEM微孔氮化硅膜 ——
微孔阵列,衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
产品编号
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膜厚
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窗口尺寸
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孔径
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阵列
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孔心间距
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ME050B
|
30nm
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0.5x0.5mm
|
2.8μm
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45x45
|
10μm
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ME050C
|
50nm
|
0.5x0.5mm
|
2.0μm
|
45x45
|
10μm
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ME050C10
|
50nm
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0.5x0.5mm
|
10μm
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32x32
|
15μm
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ME050E05
|
200nm
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0.5x0.5mm
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5μm
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49x49
|
10μm
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每盒包含10枚芯片
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—— TEM纳米孔氮化硅膜 ——
微孔阵列,衬底200um厚, 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
产品编号
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膜厚
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窗口尺寸
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孔径
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阵列
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孔心间距
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NE005C10
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50nm
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50×50μm
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1.0μm
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15x15
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2.0um
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NE050C10
|
50nm
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0.5x0.5mm
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1.0μm
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15x15x4
|
5.0μm
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NE005E10
|
200nm
|
50×50μm
|
1.0μm
|
15x15
|
2.0μm
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NE050E10
|
200nm
|
0.5x0.5mm
|
1.0μm
|
15x15x4
|
5.0μm
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每盒包含10枚芯片
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